2007 | 2006 | 2005 | 2004

PAD aime NY.

Pour consolider ses positions sur la Cte Est des tats-Unis, PAD System s'est tabli dans le tout nouveau bureau permanent situ New York au 1400 rue Broadway.

Depuis l'ouverture officielle Big Apple en septembre 2004, PAD a dj organis de multiples dmos, mis en place une assistance technique, offert plusieurs formations et autres confrences dans ce qui constitue aujourd'hui le deuxime pole en importance de l'industrie du vtement aux tats-Unis. Parmi les vnements new-yorkais rcents les plus russis, PAD a tenu, cet t, deux confrences d'envergure ayant rassembles une large audience, l'cole de Technologie de Xincon ainsi qu' l'Institut de Technologie de la Mode (FIT).

Ces confrences, et d'autres vnements, comme les tudes comparatives de performances de logiciels, vont se tenir rgulirement New York. Suivez de prs nos annonces pour plus de dtails !

PAD System Technologies la conqute de New Delhi.

Montral, le 4 janvier 2005 — PAD System Technologies Inc., spcialiste en CAD/CAM de renomme mondiale dans l'industrie de la mode, dvoilera sa toute dernire technologie New Delhi lors de la Garment Technology Expo 2005 International.

La New Delhi Garment Technology Expo est un des vnements les plus attendus de 2005 pour tous les professionnels de la technologie de la production du vtement. Elle prsente les joueurs de l'industrie les meilleurs, tous sous un mme toit. L'expo, du 21 au 24 janvier sera par consquent une opportunit sans pareil pour les manufacturiers du vtement et des produits cousus de se familiariser avec les logiciels trs faciles d'usage et polyvalents de PAD qui permettent de couvrir tous les aspects du dveloppement du produit et de gestion de la production des biens cousus.